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膜厚测试仪常用到的测试方法有哪些?

发布时间:2020-05-19   点击次数:1048次
   膜厚测试仪常用到的测试方法有哪些?
  膜厚测试仪一般要求基材导磁率在500以上。如果覆层材料也有磁性,则要求与基材的导磁率之差足够大(如钢上镀镍)。当软芯上绕着线圈的测头放在被测样本上时,仪器自动输出测试电流或测试信号。早期的产品采用指针式表头,测量感应电动势的大小,仪器将该信号放大后来指示覆层厚度。
  如果经常跟本测试仪打交道的朋友们都知道,该仪器是有好几种测试方法的,比如有台阶测厚方法、荧光测厚度、金相测膜厚度、SEM测膜厚度、XPS深度剖析等等,若大家有想了解更多关于这些方法详细内容的,请看下面介绍。
  一:台阶测厚方法
  设备:台阶仪
  此方法对厚度的测量范围较宽,0.1μm到10μm均能检测;但对样品的要求很高,膜层与基材之间必须有台阶,且表面光滑。
  二:荧光测厚度
  设备:XRF测厚仪
  此方法适用于测量厚度>0.01μm的金属膜层,可同时测量多层;在使用膜厚测试仪测量前需知道样品的镀膜工艺信息(如基材材料、膜层材料及顺序);可以实现无损检测(视样品)。
  三:金相测膜厚度
  设备:金相显微镜
  此方法适用于测量厚度>1μm的金属膜层,可同时测量多层;被测样品需要经垂直于待测膜层取样进行金相制样,再在金相显微镜下观察并拍照测量待测膜层厚度。
  四:SEM测膜厚度
  设备:为扫描电子显微镜(SEM)
  此方法测试范围宽,适用于测量厚度0.01μm~1mm的金属或非金属膜层;样品前处理与金相测厚相同,配有能谱附件(EDS)的SEM设备可以确定每一层膜层的成分。
  五:XPS深度剖析
  设备:X射线光电子能谱仪(XPS)
  此方法适用于测量纳米级厚度的膜层。XPS设备可以测试样品极表面的元素成分(每次测量的信息深度为5nm左右),并且可以在样品室内直接对样品表面进行溅射,可以去除厚度(纳米级)的表层物质,膜厚测试仪的这两个功能结合使用就可以测量出纳米级膜层的厚度;
  例如,样品表面成分为铑元素,逐步溅射掉表面50nm后发现成分中开始出现大量的铂元素,那么可以判断测试位置铑膜的厚度约为50nm。

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